FEI Titan 80-300 场发射球差校正电镜:
性能指标：
（1）最高加速电压：300 KV；
（2）信息分辨率：0.08 nm；
（3）能谱仪能量分辨率：129 eV；
（4）HR-STEM 分辨率: 0.136 nm（HAADF）。
利用该设备能够直接观察原子的存在和原子在固体中的行为，研究原子的能级和固体能带结构的变化等物质的微观特性，从微米到亚埃尺度认识物质的微观结构和组成。
聚焦离子束 Zeiss FIB:
可以进行SEM的分析测试（形貌、成分、晶体结构）；可以进行微纳米尺度加工（切割、焊接、沉积等）；可以进行三维成像（3D-形貌、3D-EDS、3D-EBSD）等。
高性能场发射扫描电镜 Zeiss Merlin:
本仪器适用面广，可以实现常规SEM功能外，还可以进行EDS（能谱仪）、EBSD（电子背散射衍射）、CL（阴极荧光）分析（点、面）；可以进行绝缘体直接观察等。
JEOL JEM 2010F 场发射透射电镜:
该设备性能指标：（1）最高加速电压：200KV；（2）点分辨率？0.23nm；（3）能谱仪能量分辨率:优于129eV。（4）能谱分析元素范围：Be4-U92；利用该设备能够进行材料的组织形貌、电子衍射、高分辨图像、微区成分分布研究。
Gatan PIPS2离子减薄仪:
透射电镜样品的离子减薄，离子束能量范围：100eV-8.0KeV;带有冷却样品台。
高分辨场发射扫描电镜 Hitachi S-5500:
设备是一台高分辨分析扫描透射电镜，其分辨率为0.4nm，可以得到图像同时得到成分。其可以进行表面形貌观察也可以进行STEM分析，可以得到高分辨成分像。其加速电压30Kv对样品损伤小，可以实现一般透射电镜不能分析观察的样品（辐照损伤）的观察，尤其是纳米颗粒分析与观察、不耐辐照样品的TEM的明暗场像观察和分析。由于电子束能量低，其图像衬度好。
JEM-2100透射电子显微镜:
衍衬像，高分辨像，选区电子衍射，EDS成分分析
场发射扫描电子显微镜 JEOL JSM 6301F:
通用型场发射扫描电镜，适用于不挥发、非磁性、致密固体材料的形貌、成分及晶体结构观察与分析。
FEI Tecnai G2 20 透射电子显微镜:
可用于不同材料（包括各种金属材料、无机非金属材料、高分子材料等）形貌、组织结构及成份的表征。
离子束镀膜刻蚀系统:
可以进行精密镀膜，现有靶材C；
镀膜时间短：一般1小时以内完成镀膜
镀膜没有温升，对样品损伤小（由于是离子束轰击到靶材上，间接把靶材的材料镀到样品上，因此该种方式镀膜对样品损伤小）
Titan Themis 场发射透射电镜:
该设备性能指标：（1）最高加速电压：300KV；（2）信息分辨率？0.08nm；（3）电子能量损失谱能量分辨率: ？0.7eV；（4）能谱仪能量分辨率:优于133eV；（5）HR-STEM 分辨率: 0.136nm（HAADF）。利用该设备能够直接观察原子的存在和原子在固体中的行为，研究原子的能级和固体能带结构的变化等物质的微观特性，从微米到亚埃尺度认识物质的微观结构和组成。
JEOL JEM 2011 透射电子显微镜:
主要功能：衍衬像、选区电子衍射、高分辨像、EDS成分分析。
主要用于材料的微观组织结构的观察与分析、成分分析与相鉴定、高分辨像。
服务于电子显微学、材料科学、纳米科技、信息、化学、凝聚态物理、化工、环境等领域。