探针台:
与半导体分析仪或者网络分析以一起使用,配备各种射频直流探针,配备基片台可加热。
电子束曝光系统:
高分辨率的热场发射源(尺寸: 20nm),图形直写(<0.1μm) :最小线宽分辨率20nm。双PC机控制系统:曝光与SEM测量
扫描电镜:
显微结构的分析,纳米尺寸的研究
网络分析仪:
与cascade探针台一起使用,配备GSG探针
低温高磁电运输测量台:
可在低温下快速换样,结合网络分析仪、半导体器件测试仪以及其它精密电学设备测试样品
激光脉冲沉积系统:
外延生长高质量单层和多层的多元氧化物,并通过RHEED实时监控薄膜生长状态。
磁控溅射仪:
全程自动化制备高质量的单质金属、金属氧化物,陶瓷单层膜和多层膜,以及共溅射生长理想比例的合金薄膜
超高真空镀膜机:
制备高质量超薄金属薄膜,如0.3nm厚的钴
半导体器件测试仪:
与cascade探针台一起使用,配备各式探针